等離子拋光
等離子拋光是一個(gè)多因素的綜合過(guò)程。因此，影響等離子拋光工藝的因素較多，而且這些影響因素是相互關(guān)聯(lián)的，長(zhǎng)安等離子拋光，有時(shí)是某種因素起主要作用，等離子拋光收費(fèi)，有時(shí)則集中因素共同起重要作用。所以，要使等離子拋光工藝長(zhǎng)期保持穩(wěn)定和處于較佳的狀態(tài)，就必須從多方面創(chuàng)造和掌握好各種影響拋光效果的主要因素。
等離子拋光作為一種新的拋光工藝，是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢(shì)。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時(shí)間和成本。
等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。
半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制，操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便，減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。
等離子拋光又稱為“納米拋光”，是目前行業(yè)廣為應(yīng)用的拋光工藝。采用液態(tài)電打磨原理，在特定的浴液中將工件置于陽(yáng)極。在適溫環(huán)境下，等離子拋光適合哪些行業(yè)，溶液中產(chǎn)生能量巨大的等離子態(tài)，當(dāng)?shù)入x子與工件摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的材料去除。
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