在離子束濺射 (IBS) 過程中，利用高能電場加速離子束（圖 5）。這一加速度會給離子提供顯著的動能 (~10-100 eV)。當源材料受到?jīng)_擊時，源材料離子從目標“濺射”，大嶺山塑料電鍍AF，并在與光學表面接觸后形成致密膜。以其精度和可重復性著稱，是激光光學鍍膜的鍍膜沉積技術。IBS的缺點是，成本比其他技術更高，因為在光元件中產(chǎn)生了更長的周期時間和應力，塑料電鍍AF多少錢，這可能導致變形和光學畸變。


常見鍍膜種類包含增透膜，寬帶增透膜，介質(zhì)高反膜，金屬反射膜，金屬加強膜，金屬導電膜，透明導電膜，前截止膜，后截止膜，塑料電鍍AF定做，偏振膜，增透+防水膜，塑料電鍍AF加工廠，高反+防水膜等等。根據(jù)產(chǎn)品需求可進行膜層選擇。常見選用的鍍膜材料一般是氟化鎂、二氧化硅、氧化鋯等其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜（折射率1.5），則透光度可達91%。可見光學鍍膜的重要性。


與PVD相比，ALD的沉積率通常較低。但ALD制備工藝可通過大批量的產(chǎn)能來進行彌補。Beneq P400A 經(jīng)過優(yōu)化，可在批量生產(chǎn)中以更快的生長速度沉積高保形厚膜。為工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)設計的原子層沉積系統(tǒng)。它們是從研發(fā)階段到大規(guī)模的工業(yè)化生產(chǎn)的理想工具。將等離子體增強原子層沉積（PEALD) 工藝提升到一個全新的水平 — 將 PEALD 應用于大批量生產(chǎn)。


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