電場對離化的蒸氣份子的加快感化（離子能量約幾百～幾千電子伏）和離子對基片的濺射洗濯感化，精密表面鍍膜訂制，使膜層附著強(qiáng)度大大進(jìn)步。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高堆積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特色，并有很好的繞射性，可為外形繁雜的工件鍍膜。接通高頻電源后，高頻電壓賡續(xù)轉(zhuǎn)變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分離打到絕緣靶上。因?yàn)殡娮舆w徙率高于正離子，絕緣靶外面帶負(fù)電，


穩(wěn)定的光學(xué)性能要求高度均勻性的薄膜材料。根據(jù)光學(xué)性能要求，精密表面鍍膜加工廠家，典型的膜層厚度均勻性要求在1%左右。與PVD不同，ALD鍍膜無論對于納米結(jié)構(gòu)的微觀層面或任意形狀光學(xué)器件的宏觀層面，長安精密表面鍍膜，都是理想的鍍膜解決方案。 ALD工藝技術(shù)滿足了在復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)表面均勻沉積薄膜的高保形性。這為任意形狀的光學(xué)器件、球型透鏡、光柵等應(yīng)用提供了成熟可靠的鍍膜方案。將等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD) 工藝提升到一個(gè)全新的水平 — 將 PEALD 應(yīng)用于大批量生產(chǎn)。


利用斯涅爾定律，可以找到由不同折射率的平面平行表面組成的多層薄膜鍍膜任何位置的光線角度。由于斯涅爾定律適用于每個(gè)界面，因此薄膜內(nèi)光線的內(nèi)角與薄膜順序或薄膜在堆棧中的位置無關(guān)(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin?θ1=n2sin?θ2=n3sin?θ3=n4sin?θ4出射光線將與入射光線平行，精密表面鍍膜公司，因?yàn)?n1 = n4。由于光學(xué)元件的曲率，曲面上的光學(xué)鍍膜并不是真正的平面平行結(jié)構(gòu)。不過，由于鍍膜較薄，這種近似仍然有效。


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