薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量僅約0.1eV。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時，光學(xué)電鍍多少錢，這些微孔逐漸被水汽所填充。因而，折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。


光學(xué)鍍膜的設(shè)計(jì)是為了提高光學(xué)組件在特定入射和偏振角度（如 s 偏振，光學(xué)電鍍定制，p 偏振或隨機(jī)偏振）下的性能。如果鍍膜的入射角度或偏振角度與設(shè)計(jì)時不同，光學(xué)電鍍加工廠商，將導(dǎo)致性能顯著下降。足夠大的入射角和偏振偏差可能導(dǎo)致鍍膜功能完全喪失。光學(xué)鍍膜理論要理解光學(xué)鍍膜，就必須理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波從一種光學(xué)介質(zhì)傳播到另一種介質(zhì)時傳播方向的變化，它受斯涅爾折射定律決定


利用斯涅爾定律，可以找到由不同折射率的平面平行表面組成的多層薄膜鍍膜任何位置的光線角度。由于斯涅爾定律適用于每個界面，因此薄膜內(nèi)光線的內(nèi)角與薄膜順序或薄膜在堆棧中的位置無關(guān)(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin?θ1=n2sin?θ2=n3sin?θ3=n4sin?θ4出射光線將與入射光線平行，虎門光學(xué)電鍍，因?yàn)?n1 = n4。由于光學(xué)元件的曲率，曲面上的光學(xué)鍍膜并不是真正的平面平行結(jié)構(gòu)。不過，由于鍍膜較薄，這種近似仍然有效。


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