2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽(yáng)極獲得非自持氣體放電，氣體放電產(chǎn)生的離子，在靶表面負(fù)電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經(jīng)受氣體放電轟擊的清洗過(guò)程。

2.3物***相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或?yàn)R射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過(guò)率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。

3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。

采用******的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，及在此基礎(chǔ)之上與國(guó)際***的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗(yàn)，為客戶(hù)提供適合的涂層加工方案。

pvd真空電鍍，抗腐蝕，耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定，抗酸。手機(jī)外殼PVD鍍膜抵抗力，鍍膜外殼容易清除油漆和***。在強(qiáng)烈的陽(yáng)光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落。高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷?？慑儾牧蠌V泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。

真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過(guò)表面拋光的金屬材料的表面對(duì)鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右，真空PVD鍍膜涂層對(duì)鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間，常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系數(shù)一般在0.4-0.6，低的摩擦系數(shù)使經(jīng)過(guò)真空PVD鍍膜處理的模具在加工過(guò)程中與被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品質(zhì)優(yōu)于沒(méi)有涂層的模具所生產(chǎn)的零件。