這是方達(dá)自主研發(fā)的一款比較新穎的產(chǎn)品,在操作上比較簡(jiǎn)單,采用的是
開(kāi)關(guān)控制系統(tǒng)。
適用范圍: 廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、
諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
主要用途:
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、
導(dǎo)光板、光扦接頭閥片、液壓密、不銹鋼、等各種材料的單面研磨、拋光。
高精密研磨機(jī)(帶水冷修面研磨機(jī))設(shè)備原理:
1. 本研磨機(jī)為精密研磨設(shè)備,被研磨產(chǎn)品放置于研磨盤(pán)上,研磨盤(pán)逆
時(shí)鐘旋轉(zhuǎn),工件自己轉(zhuǎn)動(dòng),用重力加壓的方式對(duì)工件施壓,工件與研磨盤(pán)作
相對(duì)旋轉(zhuǎn)磨擦,來(lái)達(dá)到研磨目的。
2.修盤(pán)機(jī)采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運(yùn)動(dòng),配合金剛石修面刀對(duì)研磨盤(pán)進(jìn)行
精密修整,使研磨盤(pán)得到精密的平面度。
高精密研磨機(jī)特點(diǎn):
1.采用間隔式自動(dòng)噴液裝置,可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間。
2.系列研磨機(jī)工件加壓采用壓重塊加壓,氣缸提升的方式; 拋光后工件表
面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后
工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002;平面度可控制在正負(fù)0.002mm范圍內(nèi)。
3、氣缸有防止斷氣下掉功能,以確保人身和設(shè)備安全。
4. 系列研磨機(jī)采用開(kāi)關(guān)按扭控制系統(tǒng),研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速與定時(shí)可直接在控制面
板上設(shè)制。
5.設(shè)備設(shè)置三個(gè)工位(包含三套壓重與自鎖系統(tǒng)),可同時(shí)進(jìn)行3組產(chǎn)品的
拋光研磨加工。
項(xiàng)目 參數(shù)一
研磨盤(pán)尺寸 460mmx140mmx12
***大加工工件尺寸 270
陶瓷修整輪規(guī)格 218mmx180mmx3個(gè)
主電機(jī)功率 1.5KW
主電源 三相380V
修面機(jī)功率 0.2KW
主電機(jī)轉(zhuǎn)速 0-140RPM
修面速度 0—120mm/分鐘
定時(shí)范圍 99分59秒
總工作氣壓 0.4—0.6mpa
工作工位 3組
設(shè)備總重量 850kg
外形尺寸 1200x1500x1800mm
該設(shè)備工作量大,可同時(shí)進(jìn)行三組產(chǎn)品的研磨拋光加工。拋光后的工件質(zhì)量、要求能夠達(dá)到很高的標(biāo)準(zhǔn)。